北京瑞科中儀科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：激光 分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點(diǎn)和優(yōu)勢。它能在高真空、真空條件下實現(xiàn)原位實時監(jiān)控...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2025-01-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡要描述：剝離成形電子束設(shè)備：對于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時，就可以采用 Lift...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：超高真空電子束蒸鍍設(shè)備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學(xué)物理和工程領(lǐng)域十分常見。超高真空環(huán)境對于科學(xué)研究非常重要，因為實驗通...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：電子束蒸鍍設(shè)備是一種實用且高度可靠的系統(tǒng)。我們的系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu)。在基板乘載上我們對應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：電子束蒸鍍?yōu)橐环N物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，其中電子束是由鎢絲所產(chǎn)生的，並受到電場和磁場的驅(qū)動而朝向蒸發(fā)材料，並將其材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)以沉積在基板表...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：多層膜磁控濺鍍設(shè)備廣泛用於各個領(lǐng)域，而對於精密系統(tǒng)則需要更嚴(yán)格的規(guī)格，包括光、聲音和電子元件。在單一材料薄膜無法滿足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中，高質(zhì)量多層膜...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam憑借其的聚焦離子束和電子束性能、專有軟件、自動化和易用性特征，重新定義了樣品制備和...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：具有分辨率的直接激光刻錄機(jī)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī)，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：激光光刻系統(tǒng)PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī)，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：大面積 SEM 成像通過 CAD 形狀提取在大面積和 3D 中拼接 3D SEM 圖像馬賽克
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：聚焦離子束掃描電鏡系統(tǒng)用于以 FIB 為中心的納米加工的 FIB-SEMVELION 是一種用于納米科學(xué)與工程的新型 FIB-SEM 儀器概念。FIB...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：專用電子束光刻系統(tǒng)這些創(chuàng)新、智能配置的電子束光刻系統(tǒng)可以輕松有效地實現(xiàn)納米加工。所有 Raith EBL 系統(tǒng)都配備了高精度激光干涉儀平臺和圖案發(fā)生器...
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詳細(xì)摘要： 簡要描述：國產(chǎn)電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2025-01-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡要描述：德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2025-01-01 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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